추진목적
기존 반도체 기술 한계를 극복하는 초저전력‧고성능의 미래 반도체 신소자 핵심 원천기술 및 집적 기술 개발
추진전략 및 내용
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◆ (기본방향) 단순 논문중심연구 지양, 조기 상용화 및 원천 IP 확보
① 경쟁형 R&D 방식 도입, 단계별 평가, 지속 지원대상 결정 ② 웨이퍼레벨 집적․검증 지원(관련 기술 개발 병행)
추진내용
(사업기간) ?20년∼?29년(10년)
(예산규모) 총 2,405억원
(주요내용)
- - (신소자 원천기술) 기존 반도체 한계를 넘어서는 초저전력·고성능 신소자 개발
- - (신소자 집적검증 기술) 조기상용화 가능한 신소자 개발 및 IP확보를 위한 신소자 집적/검증기술 개발